经济观察网 应用材料公司发布了两款面向2纳米及以下先进制程的新制造系统，并获得了多家机构的积极评级。

公司项目推进
4月9日，应用材料宣布推出两款专为2纳米及以下GAA（全环绕栅极）晶体管架构设计的新制造系统：Applied Producer Precision Selective Nitride PECVD系统和Trillium ALD系统。前者通过增强晶体管隔离层提升芯片能效，后者针对GAA结构空间限制优化了材料沉积精度。公司强调，这些工具可支持新一代AI GPU在邮票大小空间内集成超3000亿晶体管，直接响应了AI算力对先进制程的需求。

机构观点
美国银行分析师Vivek Arya当日指出，应用材料仍是半导体设备领域的首选股，受益于芯片设备支出增长；德意志银行将其纳入未来12个月科技股首选名单，认为公司将受益于晶圆厂资本开支扩张（如台积电）及DRAM需求回暖。此外，近三个月25位分析师中96%给予“买入”评级，平均目标价432.43美元，较当日收盘价存在约12%溢价空间。

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